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激光噴霧粒度儀是一種基于激光散射原理的高精度測量設備，專門用于分析噴霧、氣霧劑、粉霧劑等微小顆粒的尺寸分布及動態特性。其核心原理是當激光束照射到噴霧顆粒時，顆粒會對入射光產生散射作用，散射光的強度及角度分布與顆粒粒徑直接相關——大顆粒散射光角度小、信號強，小顆粒則相反。通過測量散射光的角度分布與強度，并結合Mie理論或Fraunhofer衍射模型（適用于5μm顆粒），儀器可反算出顆粒的粒徑分布。該儀器具備顯著的技術優勢：測量范圍廣，可覆蓋0.1μm至30000μm的粒徑，滿足...

X射線熒光光譜儀是一種基于X射線激發原理的非破壞性分析儀器，通過測量物質受激發后產生的特征X射線熒光，實現元素定性與定量分析。其核心原理為：高能X射線或伽馬射線轟擊樣品時，樣品中原子內層電子被擊出，形成空穴，外層電子躍遷填補空穴時釋放特征X射線。不同元素的特征X射線具有特定能量或波長，探測器捕獲這些信號后，儀器軟件將其轉化為元素種類及含量信息。X射線熒光光譜儀其主要技術特點如下：1、分析速度快，效率高XRF分析過程非常迅速，通常在10秒到幾分鐘內即可完成對樣品中多種元素的同時...

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納米顆粒跟蹤分析儀是一種基于納米顆粒跟蹤分析（NTA）技術的高精度物理性能測試儀器，通過追蹤納米顆粒的布朗運動和光散射特性，實現粒徑、濃度及Zeta電位等多參數同步測量，廣泛應用于生物醫藥、材料科學、環境監測等領域。技術原理：NTA技術結合激光散射與視頻顯微技術，利用納米顆粒在液體中的布朗運動特性進行表征。激光束照射樣品池后，顆粒散射的光被顯微鏡捕捉，高速攝像頭（如CMOS傳感器）以每秒30幀的頻率記錄顆粒運動軌跡。通過分析擴散系數并結合斯托克斯-愛因斯坦方程，可計算出顆粒的...

激光粒度分布儀是一種利用激光散射原理測量顆粒大小分布的精密儀器，其核心原理基于米氏散射理論（MieScatteringTheory）——當激光束照射樣品顆粒時，顆粒會使激光產生散射，散射光的強度與角度分布與顆粒大小密切相關。大顆粒產生前向小角度散射且光強較強，小顆粒則使光散射至更廣泛角度且光強較弱。通過高靈敏度光電探測器陣列捕獲不同角度的散射光信號，結合全Mie散射理論進行復雜計算，儀器可精確反演出顆粒的粒度分布數據。激光粒度分布儀的安裝步驟：1、安裝前準備人員要求：確保安裝...